.png "عصر ایران")
۱۳ دی ۱۴۰۴
به روز شده در: ۱۳ دی ۱۴۰۴ - ۰۸:۴۶
ربات تحویلدهنده در لسآنجلس موتورسیکلت را سرنگون کرد ماسکهای نانویی برای لیتوگرافی در صنعت نیمههادی تولید میشود
یک شرکت ژاپنی با همکاری مرکز نوآوری نانوالکترونیک IMEC بلژیک در حال کار روی ارائه نسل بعدی ادوات لیتوگرافی است. این همکاری راهبردی در مسیر تجاریسازی یکی از مؤلفههای اصلی سامانههای لیتوگرافی نیمههادی با پرتوهای فرابنفش شدید (EUV) است.
در این پروژه مشترک قرار است روی غشاهای شفاف و نازک EUV تمرکز شود که نوعی ماسک EUV در برابر آلودگی است. مشارکت شرکت Mitsui Chemicals ژاپن و IMEC بلژیک به گونهای برنامهریزی شده است که ماسکهای مبتنی بر نانولولههای کربنی در بازه زمانی سالهای ۲۰۲۵ تا ۲۰۲۶ به مرحله تجاریسازی برسند.
به گزارش ایسنا، با افزایش نیاز به ایجاد محصولاتی با ابعاد کوچکتر و متراکمتر در مدارهای الکترونیکی، لیتوگرافی EUV به شدت مورد توجه شرکتها قرار گرفته است.
بازار تجهیزات لیتوگرافی EUV تا حد زیادی در اختیار شرکت هلندی ASML است که ماشینآلات پیشرفته و پیچیدهای را تولید کرده و به فروش میرساند. این دستگاهها پرتوهای فرابنفش ۱۳٫۲ نانومتری تولید کرده که این کار با استفاده از شلیک پالسهای مکرر لیزر CO2 بر روی قطرات قلع مذاب انجام میشود و باعث ایجاد پلاسمایی میشود که تابش فرابنفش شدید ایجاد میکند.
تابش EUV از طریق اپتیک خاصی به یک اسکنر برای الگوبرداری لیتوگرافی در مقیاس نانومتر منتقل میشود. اندازه بسیار کوچک از ویژگیهای ساختارهای ایجاد شده توسط این روش است، هر چند که آلودگی میتواند مشکلاتی برای کاربر ایجاد کند و هزینه گزافی را به تولیدکنندگان تحمیل کند. در نتیجه نیاز به ماسکهای محافظ وجود دارد که شرکت ASML برخی از ماسکهای مورد نیاز شرکتها را تولید میکرد.
در این پروژه مشترک، دو شرکت ژاپنی و بلژیکی روی ارائه نسل جدید ماسکهای حاوی نانولولهکربنی کار میکنند که میتواند نانولیتوگرافی با کیفیت بالا را امکانپذیر کند. براساس اطلاعات منتشر شده توسط این گروه، ماسکهای حاوی نانولولهکربنی میتواند انتقال پرتو تا ۹۴ درصد را تضمین کرده و مقادیر بسیار کمی از پرتوها منعکس میشوند.
به نقل از ستاد نانو، این ماسکهای نانویی میتوانند در برابر سطح قدرت EUV فراتر از ۱۰۰۰ W قرار بگیرند. این ماسکها نه تنها در برابر تابش فرابنفش شدید در لیتوگرافی شفاف بوده، بلکه به طول موجهای فرابنفش عمق (DUV) که در برخی از سیستمهای بازرسی و کنترل کیفیت نتایج لیتوگرافی استفاده میشود، قابل استفاده است.
لینک کوتاه: کپی لینک
داستان عجیب کشور تووالو؛ شمارش معکوس برای غرق شدن یک ملت و اولین پناهندگی اقلیمی جهان (+ 23 نکته خواندنی) علائم نیاز بدن به مکمل آهن نامه فوری ایران به سازمان ملل در پاسخ به تهدیدهای ترامپ آب رفتن در گوش؛ چه زمانی به پزشک مراجعه کنیم؟ مصاحبه با دهها مدیرعامل؛ راز «ساعت طلایی» افراد موفق چیست؟ رئیس کمیسیون امنیت ملی: ترامپ غلط کرد! از کمیاب ترین خودروهای کلاسیک جهان و یک عملیات بازسازی هیجان انگیز (فیلم) آموزش زبان انگلیسی به سبک عصر ایران / درس چهارم مؤثرترین راههای کاهش انتقال کووید ۱۹ صحرا اسدالهی: در مترو دنبال شوهر بودم اظهار نظر غیر منتظره مسعود فراستی در مورد بهرام بیضایی و عباس کیارستمی چهرهنگاری مظنونان در ۱۰ دقیقه؛ انقلاب هوش مصنوعی در پلیس ژاپن ایرنا : تجمع در اصفهان، قم، مرودشت فارس، یاسوج، مشهد و همدان / تجمع در شرق تهران (تهرانپارس و خاک سفید) / خدایاری، جانباخته است/ مراسم تدفین امیرحسام خدایاری، خداداد شیروانی و داریوش انصاری بختیاروند «دید مسی» مهمتر از «قدرت رهبری مارادونا» نیست فریبا نادری: من خودشیفته و خوشگلم
اخبار و تحلیل های ترکیه